PHI X 射线光电子能谱Quantera II

X 射线光电子能谱（XPS）是材料科学和发展的领域中广泛使用的表面分析技术。其原理是利用X射线束（一般会使铝阳极或镁阳极）作为入射源，照射在样品表面导致让光电子从原子的核心层被激发出。根据测得的光电子所发出的电子动能，再依照能量守恒定律就可以知道电子的结合能，从而也就可知道样品表面是何物质。

PHI Quantera II扫描XPS探针是Ulvac-Phi公司以在业界获得非常成绩的Quantum 2000和Quantera SXM之上延申后所新研发的XPS分析仪器，其革命性超卓技术包括有：一个微集中扫描的X射线来源，专利的双光束的电荷中和技术，在极低电压下仍可保持的离子束源以进行XPS的深度分析，一个五轴精密的样品台和负责全自动样品传送的机械手臂，与及一个完全自动化且可支持互联网远程控制的仪器操作平台。Quantera II 增加了这些革命性的技术性能和生产力，再一次提供了的XPS系统，以满足您当前和未来的XPS需要。