简单描述：真空烧结炉广泛应用于半导体、冶金及其它行业的热处理、真空工艺处理 详细介绍：★工作温度：400-1200oC            
★单点温度控制精度：≤±1oC/24h★等温区长度：200-400mm/±1mm          
★升温功率：3-6KVA★升温时间：（至1200℃）<750min          
★保温功率：<3KVA★重新定值重复性：1mm          
★重新开机重复性：≤±1oC★冷态真空度：5×10-3Pa          
★真空式内径：Φ150-Φ200mm★外型尺寸：2400×600×600        
★总重量：约360kg★设备工作条件：环境温度：10-45℃    相对湿度：≤85%     电网电压：380KVA±10%★真空室内配有舟托架（不锈钢）  
★电动炉体移动速度0-400mmm/min(可调）★可根据用户要求配数字真空计和电动放气阀