| 品牌 | 金石 |
| 规格 | 套 |
| 材质 | 木箱包装 |
| 产地 | 江苏南京 |
产品概述
、灵活性台式全谱直读光谱仪
JS-GP891型台式全谱直读光谱仪流线型全新设计的桌面光谱仪，满足冶炼、金属制造和机械加工的用户要求，采用全电脑控制全数字火花光源，运用CCD检测技术及的真空光室可测定非金属元素中C、P、S以及各种合金元素含量，实现全谱分析。测定结果，重现性及长期稳定性；
产品配置及特点
1、 采用设计的真空光室可测定非金属元素中C、P、S以及各种合金元素含量，测定结果，重现性及长期稳定性。
2、 的真空光学室结构设计，使真空室容积更小，抽真空速度不到普通光谱仪的一半。将入射窗与真空室分离使入射窗日常清洗维护方便快捷。
3、光学系统自动进行谱线扫描，自动光路校准，确保谱线接收的正确性，免除繁琐的波峰扫描工作。
4、的激发台及氩气气路设计，大大降低了氩气使用量。灵活的样品夹设计，以满足客户现场的各种形状大小的样品分析。
5、不增加硬件设施的情况下，即可实现多基体分析。相比光电倍增管光谱仪可大大降低客户使用成本及使用范围。
6、采用国际先进的喷射电极技术。在激发状态下，电极周围会形成氩气喷射气流，这样在激发过程中激发点周围不会与外界空气接触，提高激发精度；
7、配上的光谱操作软件完全兼容于windows系统。同时可以根据客户需求配备各种语言版本。软件操作简单即使没有任何光谱仪知识及操作经验的人员只需经过简单的知识培训即可上手使用。
8、采用FPGA、DSP及ARM处理器，具有速数据采集分析功能，并能自动实时监测控制光室温度、真空度、氩气压力、、激发光源等模块的运行状况。
9、全数字化等等离子激发光源，超稳定能量释放在氩气环境中激发样品。全数字激发脉冲，确保激发样品等离子体能量分辨率和高稳定输出。满足各种不同材料的激发要求。
10、样品激发台采用铜火花台底座，钨材料电极；铜火花台底座为激发台提供较好的散热及坚固等特性，同时钨电极使用寿命长，耐高温等特性也提高了激发的性能；电极自吹扫功能的设计，为激发创造了良好的环境，也使激发台清洁电极更加容易。
分析基体 Fe、Cu、Al、Ni、Ti、Co、Zn、Sn、Mg、Pb等
光学结构 帕邢-龙格罗兰圆全谱真空型光学系统
波长范围 160-650nm
焦距 400mm
光栅刻线 3000条/mm
探测器 CCD阵列,每块CCD 3,648 像素，
CCD像素分辨率 6pm
电极 钨材喷射电极
分析间隙 样品台分析间隙：4mm
光源类型 全新可调节数字化光源，高能预燃技术（HEPS）
激发频率 100-1000Hz
大放电电流 400A
真空系统 真空软件自动控制、监测
技术参数
、灵活性台式全谱直读光谱仪
TY9000型台式全谱直读光谱仪流线型全新设计的桌面光谱仪，满足冶炼、金属制造和机械加工的用户要求，采用全电脑控制全数字火花光源，运用CCD检测技术及的真空光室可测定非金属元素中C、P、S以及各种合金元素含量，实现全谱分析。测定结果，重现性及长期稳定性；
产品配置及特点
1、 采用设计的真空光室可测定非金属元素中C、P、S以及各种合金元素含量，测定结果，重现性及长期稳定性。
2、 的真空光学室结构设计，使真空室容积更小，抽真空速度不到普通光谱仪的一半。将入射窗与真空室分离使入射窗日常清洗维护方便快捷。
3、光学系统自动进行谱线扫描，自动光路校准，确保谱线接收的正确性，免除繁琐的波峰扫描工作。
4、的激发台及氩气气路设计，大大降低了氩气使用量。灵活的样品夹设计，以满足客户现场的各种形状大小的样品分析。
5、不增加硬件设施的情况下，即可实现多基体分析。相比光电倍增管光谱仪可大大降低客户使用成本及使用范围。
6、采用国际先进的喷射电极技术。在激发状态下，电极周围会形成氩气喷射气流，这样在激发过程中激发点周围不会与外界空气接触，提高激发精度；配上
7、的光谱操作软件完全兼容于windows系统。同时可以根据客户需求配备各种语言版本。软件操作简单即使没有任何光谱仪知识及操作经验的人员只需经过简单的知识培训即可上手使用。
8、采用FPGA、DSP及ARM处理器，具有速数据采集分析功能，并能自动实时监测控制光室温度、真空度、氩气压力、、激发光源等模块的运行状况。
9、全数字化等等离子激发光源，超稳定能量释放在氩气环境中激发样品。全数字激发脉冲，确保激发样品等离子体能量分辨率和高稳定输出。满足各种不同材料的激发要求。
10、样品激发台采用铜火花台底座，钨材料电极；铜火花台底座为激发台提供较好的散热及坚固等特性，同时钨电极使用寿命长，耐高温等特性也提高了激发的性能；电极自吹扫功能的设计，为激发创造了良好的环境，也使激发台清洁电极更加容易。
分析基体： Fe、Cu、Al、Ni、Ti、Co、Zn、Sn、Mg、Pb等
光学结构： 帕邢-龙格罗兰圆全谱真空型光学系统
波长范围： 160-650nm
焦距 ：400mm
光栅刻线 ：3000条/mm
探测器 ：CCD阵列
电极： 钨材喷射电极
分析间隙 ：样品台分析间隙：3.4mm
光源类型： 全新可调节数字化光源，高能预燃技术（HEPS）
激发频率 ：100-1000Hz
大放电电流： 400A
真空系统： 真空软件自动控制、监测